Измерения на РЭМ размеров рельефных структур в технологическом процессе производства микросхем
- Авторы: Новиков Ю.А.1, Филиппов М.Н.2
- 
							Учреждения: 
							- Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН
- Институт общей и неорганической химии им. Н.С. Курнакова РАН
 
- Выпуск: Том 52, № 2 (2023)
- Страницы: 87-95
- Раздел: ДИАГНОСТИКА
- URL: https://rjeid.com/0544-1269/article/view/655284
- DOI: https://doi.org/10.31857/S0544126923700254
- EDN: https://elibrary.ru/PYQINW
- ID: 655284
Цитировать
Полный текст
 Открытый доступ
		                                Открытый доступ Доступ предоставлен
						Доступ предоставлен Доступ платный или только для подписчиков
		                                							Доступ платный или только для подписчиков
		                                					Аннотация
Рассмотрены проблемы измерения на РЭМ размеров элементов рельефа в технологическом процессе производства микросхем. Первая проблема связана с тем, что увеличение РЭМ в процессе работы может меняться в широких пределах в зависимости от измеряемых размеров. Вторая проблема связана с тем, что диаметр зонда, определенный в процессе калибровки РЭМ, отличается от диаметра, используемого при рабочих измерениях. Третья проблема связана с тем, что неизвестно какой параметр рельефа измеряется в методе дефокусировки РЭМ. Показано, что для решения первой проблемы необходимо калибровать метку на изображении с помощью структур с трапециевидным профилем и большими углами наклона боковых стенок. Решение второй проблемы основано на методе дефокусировки зонда РЭМ – определении зависимости размеров между определенными точками на сигналах РЭМ от диаметра зонда и экстраполяции этой зависимости к нулевому значению диаметра. Третья проблема решается с помощью виртуального растрового электронного микроскопа.
Об авторах
Ю. А. Новиков
Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН
														Email: nya@kapella.gpi.ru
				                					                																			                												                								Россия, 119991, Москва, ул. Вавилова, 38						
М. Н. Филиппов
Институт общей и неорганической химии им. Н.С. Курнакова РАН
							Автор, ответственный за переписку.
							Email: nya@kapella.gpi.ru
				                					                																			                												                								Россия, 119991, Москва, Ленинский пр., 31						
Список литературы
- Gavrilenko V.P., Novikov Yu.A., Rakov A.V., Todua P.A. // Proc. SPIE. 2009. V. 7405. P. 740504. https://doi.org/10.1117/12.826164
- Gavrilenko V.P., Novikov Yu.A., Rakov A.V., Todua P.A., Volk Ch.P. // Proc. SPIE. 2009. V. 7272. P. 72720Z. https://doi.org/10.1117/12.813514
- Novikov Yu.A., Darznek S.A., Filippov M.N., Mityukhlyaev V.B., Rakov A.V., Todua P.A. // Proc. SPIE. 2008. V. 7025. P. 702511. https://doi.org/10.1117/12.802428
- Novikov Yu.A., Gavrilenko V.P., Ozerin Yu.V., Rakov A.V., Todua P.A. // Proc. SPIE. 2007. V. 6648. P. 66480R. https://doi.org/10.1117/12.733134
- Häßler-Grohne W., Bosse H. // Measurement science and technology. 1998. V. 9. P. 1120.
- Gavrilenko V.P., Novikov Yu.A., Rakov A.V., Todua P.A. // Proc. SPIE. 2008. V. 7042. P. 70420C. https://doi.org/10.1117/12.794891
- SEM Performance Standard. Standard Reference Material 2069a. NBS. 1985.
- Oho E., Sasaki T., Kanaya K. // Research Reports of Kogakuin University. 1985. № 59. P. 106 (1985).
- Gavrilenko V.P., Kalnov V.A., Novikov Yu.A., Orlikovsky A.A., Rakov A.V., Todua P.A., Valiev K.A., Zhikharev E.N. // Proc. SPIE. 2009. V. 7272. P. 727227. https://doi.org/10.1117/12.814062
- Новиков Ю.А. // Микроэлектроника. 2017. Т. 46. № 1. С. 61. https://doi.org/10.7868/S0544126917010070
- Новиков Ю.А. // Микроэлектроника. 2014. Т. 43. № 6. С. 456. https://doi.org/10.7868/S0544126914060076
Дополнительные файлы
 
				
			 
						 
						 
						 
					 
						 
									

 
  
  
  Отправить статью по E-mail
			Отправить статью по E-mail 












