Отрицательная анизотропия в пленках Ni–Fe
- Авторы: Савин П.А.1, Аданакова О.А.1, Лепаловский В.Н.1, Кудюков Е.В.1, Васьковский В.О.1,2
- 
							Учреждения: 
							- Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образовани “Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина”
- Федеральное государственное бюджетное учреждение науки “Институт физики металлов имени М.Н. Михеева” Уральского отделения Российской академии наук
 
- Выпуск: Том 87, № 4 (2023)
- Страницы: 500-503
- Раздел: Статьи
- URL: https://rjeid.com/0367-6765/article/view/654424
- DOI: https://doi.org/10.31857/S0367676522700880
- EDN: https://elibrary.ru/NLMHKW
- ID: 654424
Цитировать
Полный текст
 Открытый доступ
		                                Открытый доступ Доступ предоставлен
						Доступ предоставлен Доступ платный или только для подписчиков
		                                							Доступ платный или только для подписчиков
		                                					Аннотация
Получены пленки FeNi, обладающие эффектом “отрицательной анизотропии”, заключающемся в формировании наведенной анизотропии перпендикулярно полю осаждения. Протестирована ранее предложенная модель эффекта, основанная на отрицательной магнитострикции и неоднородных напряжениях. Влияние дополнительных напряжений анализировалось по изменяющейся форме R–H кривых. Изменения анизотропии согласуются с моделью.
Об авторах
П. А. Савин
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образовани“Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина”
							Автор, ответственный за переписку.
							Email: Peter.Savin@urfu.ru
				                					                																			                												                								Россия, Екатеринбург						
О. А. Аданакова
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образовани“Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина”
														Email: Peter.Savin@urfu.ru
				                					                																			                												                								Россия, Екатеринбург						
В. Н. Лепаловский
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образовани“Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина”
														Email: Peter.Savin@urfu.ru
				                					                																			                												                								Россия, Екатеринбург						
Е. В. Кудюков
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образовани“Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина”
														Email: Peter.Savin@urfu.ru
				                					                																			                												                								Россия, Екатеринбург						
В. О. Васьковский
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образовани“Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина”; Федеральное государственное бюджетное учреждение науки
“Институт физики металлов имени М.Н. Михеева” Уральского отделения Российской академии наук
														Email: Peter.Savin@urfu.ru
				                					                																			                												                								Россия, Екатеринбург; Россия, Екатеринбург						
Список литературы
- Blois M.S. // J. Appl. Phys. 1955. V. 26. P. 975.
- Jogschies L., Klaas D., Kruppe R. et al. // Sensors. 2015. V. 15. Art. No. 28665.
- Smith D.O. // Appl. Phys. Lett. 1963. V. 2. P. 191.
- Soohoo R.F. // Czech. J. Phys. 1971. V. 21. P. 494.
- Savin P.A., Adanakova O.A., Lepalovskij V.N. et al. // J. Phys. Conf. Ser. 2019. V. 1389. Art. No. 012122.
- Лесник А.Г. Индуцированная магнитная анизотропия. Киев: Наукова думка, 1976. 160 с.
- Miyazaki T., Oomori T., Sato F. et al. // J. Magn. Magn. Mater. 1994. V. 129. Art. No. L135.
- Савин П.А., Васьковский В.О., Кандаурова Г.С., Лепаловский В.Н. // Микроэлектроника. 1991. Т. 20. С. 407.
- Maissel L.I., Glang R. Handbook of thin film technology. N.Y.: McGraw Hill, 1970.
- Zhukov A., González J., Blanco M. et al. // J. Mater. Res. 2000. V. 15. P. 2107.
Дополнительные файлы
 
				
			 
						 
						 
						 
					 
						 
									

 
  
  
  Отправить статью по E-mail
			Отправить статью по E-mail 





