О влиянии кислородной бомбардировки на структурообразование пленок оксида гафния

Обложка

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Доступ платный или только для подписчиков

Аннотация

Методом магнетронного реактивного распыления в условиях кислородной бомбардировки получены пленки оксида гафния. Структурный анализ показал, что присутствие кислородной бомбардировки в процессе роста пленки приводит к изменениям ближнего порядка в кристаллической структуре полученных пленок.

Полный текст

Доступ закрыт

Об авторах

В. А. Лузанов

Фрязинский филиал Института радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова РАН

Автор, ответственный за переписку.
Email: valery@luzanov.ru
Россия, пл. Введенского, 1, Фрязино, Московская обл., 141190

Список литературы

  1. Böscke T., Müller J., Bräuhaus D. et al. // Int. Electron Devices Meeting. 2011. P. 24.5.1.
  2. Grüger H., Kunath C., Kurth E. et al. // Thin Solid Films. 2004. № 447. P. 509.
  3. Cavalieri M., O’Connor É., Gastaldi C. et al. // ACS Appl. Electron. Mater. 2020. V. 2. № 6. P. 1752.
  4. He J. Q., Teren A., Jia C. L. et al. // J. Сrystal Growth. 2004. № 262. P. 295.
  5. Tongpenga S., Makbuna K., Peanporma P. et al. // Materials Today: Proceedings. 2019. V. 17. Pt. 4. P. 1555.
  6. Belo G. S., Nakagomi F., Minko A. et al. // Appl. Surf. Sci. 2012. № 261. P. 727.
  7. Лузанов В. А., Алексеев С. Г., Ползикова Н. И. // РЭ. 2018. Т. 63. № 9. P. 1015.

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML
Скачать
2. Рис. 1. Рентгеновская дифрактограмма от пленки HfO2, осажденной при минимальной (а) и максимальной (б) кислородной бомбардировке.

Скачать (180KB)
Метаданные
3. Рис. 2. Рамановский спектр от пленки HfO2, осажденной при минимальной (а) и максимальной (б) кислородной бомбардировке: 1 – моноклинная фаза, 2 – тетрагональная фаза.

Скачать (150KB)
Метаданные

© Российская академия наук, 2024